![]()
精選優(yōu)質(zhì)文章分享給大家，希望文章內(nèi)容對(duì)您有所幫助，歡迎您繼續(xù)關(guān)注，如能轉(zhuǎn)發(fā)不勝感激，我們?cè)负痛蠹乙黄饘W(xué)習(xí)交流，共同提高。
Jade有兩種精修模式：結(jié)構(gòu)精修和全圖擬合
結(jié)構(gòu)精修：以物相的晶體結(jié)構(gòu)為模型進(jìn)行精修，是一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的Rietveld精修程序?？梢杂糜谟?jì)算晶胞參數(shù)，物相定量和微結(jié)構(gòu)，而且可以修正晶體結(jié)構(gòu)。全圖擬合：以PDF卡片(衍射峰位置和衍射峰相對(duì)強(qiáng)度)為模型進(jìn)行精修，它僅是一個(gè)全圖擬合程序。可以用于計(jì)算晶胞參數(shù)，物相定量和微結(jié)構(gòu)。
![]()
![]()
![]()
![]()
![]()
![]()
例：對(duì)有一個(gè)Mn-O樣品，進(jìn)行Rietveld精修
樣品中加入30%內(nèi)標(biāo)物質(zhì)Si。
Si在這里有兩個(gè)作用：
作為晶胞參數(shù)精修的標(biāo)樣,校正儀器的測(cè)量誤差。
作為多相定量的內(nèi)標(biāo)，計(jì)算各個(gè)相的含量。
具體步驟如下：
1、物相檢索，確定晶體結(jié)構(gòu)模型
模型選擇為PDF卡片，稱為“非結(jié)構(gòu)相”，模型選擇為晶體結(jié)構(gòu)（Cif文件），稱為“結(jié)構(gòu)相”。Jade通過(guò)選擇“計(jì)算卡片”來(lái)讀入“結(jié)構(gòu)相”模型。
![]()
選擇“Options | WPF Refine”命令，進(jìn)入全譜擬合窗口。圖中顯示4個(gè)物相被引入。
![]()
3、固定內(nèi)標(biāo)參數(shù)，輸出參數(shù)初始值Si作為內(nèi)標(biāo)物質(zhì)，首先就要固定住它的晶胞參數(shù)LC不被改變，同時(shí)設(shè)置作為定量分析的內(nèi)標(biāo)，輸入其摻入量為30%。
![]()
根據(jù)引入的晶體結(jié)構(gòu)計(jì)算出一個(gè)“計(jì)算譜”，同時(shí)顯示計(jì)算譜和實(shí)測(cè)譜之間的差異(方差)圖中白色的譜圖為實(shí)測(cè)譜，紅色的譜圖為計(jì)算譜，在窗口的上端顯示兩者的差異R。![]()
全局參數(shù)包括：背景線(BG)，樣品位移(SD)，儀器零點(diǎn)(Z0)等，分別在這些項(xiàng)目前的勾選框中加入對(duì)號(hào)，并按下“Refine”按鈕，即逐步加入新的精修參數(shù)，逐步精修。軟件智能：軟件根據(jù)實(shí)驗(yàn)譜給需要精修的參量都賦了“初始值”。所謂精修，就是在這些初始值的基礎(chǔ)上修正各個(gè)參量?？梢蕴砑?、減少需要精修的參量，也可以手動(dòng)賦初始值。![]()
選擇“Phase”頁(yè)，下“Refine”命令按鈕，進(jìn)行“相參數(shù)”的顯示與精修。![]()
1、晶胞常數(shù)(LC)：晶胞大小、密度和形狀。2、標(biāo)度因子(SF)：多相體系中的質(zhì)量分?jǐn)?shù)。3、峰寬函數(shù)(f0，f1，f2)，峰形參數(shù)(p0，p1)，歪斜因子(s0，s1)：微觀應(yīng)力和晶粒尺寸5、峰形函數(shù)(PearsonVII，PV，Gau)：衍射強(qiáng)度計(jì)算，微觀應(yīng)力與晶粒尺寸。6、單獨(dú)強(qiáng)度修正(I%）或擇尤取向(O1，O2)：織構(gòu)。7、限制峰寬：微結(jié)構(gòu)(晶粒尺寸、微觀應(yīng)力、晶粒形狀)。這些參數(shù)根據(jù)選擇不同，有些參數(shù)受限不能修正。對(duì)于結(jié)構(gòu)相，還可以修正結(jié)構(gòu)參數(shù)(原子位置等)。如果樣品中存在多個(gè)物相，則必須針對(duì)每一個(gè)物相都做這些精修。并不一定每個(gè)參數(shù)都要修正，重要的參數(shù)才需要精修。并不一定每個(gè)物相都要精修，應(yīng)當(dāng)先精修主要的或重要的物相。7、“晶體結(jié)構(gòu)參數(shù)”精修
![]()
1、對(duì)于結(jié)構(gòu)相，按下![]()
進(jìn)入到晶體結(jié)構(gòu)修正窗口。
2、在這里可以修正各個(gè)原子的位置(x，y，z)，占位率(n)和與結(jié)構(gòu)因子相關(guān)的B或U因子。3、按下“All”，則表示修正該結(jié)構(gòu)中所有允許修正的因子。4、或者按類選擇或手動(dòng)選擇只修正其中的某些因子。
![]()
顯示精修狀態(tài)
9、觀察R
![]()
單擊“Display”選項(xiàng)卡，并選擇顯示“R%”，可顯示精修過(guò)程中R值的變化(即殘差M)，圖中E是精修收斂目標(biāo)。精修過(guò)程中應(yīng)當(dāng)時(shí)刻關(guān)注R值的變化，如果某個(gè)參數(shù)精修后使R值增大，應(yīng)當(dāng)放棄這個(gè)參數(shù)的精修。
![]()
單擊“Display”選項(xiàng)卡，并選擇顯示“R%”，可顯示精修過(guò)程中R值的變化(即殘差M)，圖中E是精修收斂目標(biāo)。精修過(guò)程中應(yīng)當(dāng)時(shí)刻關(guān)注R值的變化，如果某個(gè)參數(shù)精修后使R值增大，應(yīng)當(dāng)放棄這個(gè)參數(shù)的精修
![]()
單擊“Display”選項(xiàng)卡，并選擇顯示“R%”，可顯示精修過(guò)程中R值的變化(即殘差M)，圖中E是精修收斂目標(biāo)。精修過(guò)程中應(yīng)當(dāng)時(shí)刻關(guān)注R值的變化，如果某個(gè)參數(shù)精修后使R值增大，應(yīng)當(dāng)放棄這個(gè)參數(shù)的精修。
![]()
單擊“Report”，可以將精修結(jié)果輸出到一個(gè)擴(kuò)展名為“.rrp”的文件中，這個(gè)文件可以用記事本軟件打開；也可以單擊“Print”，根據(jù)需要將精修結(jié)果打印出來(lái)。
![]()
例1：內(nèi)標(biāo)法精修晶胞參數(shù)在電池正極材料中加入Si作為內(nèi)標(biāo)，修正材料的晶胞參數(shù)。![]()
內(nèi)標(biāo)法精修時(shí)，固定內(nèi)標(biāo)物質(zhì)Si的晶胞參數(shù)不變，以Si的晶胞參數(shù)修正儀器的誤差。![]()
1、將標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)加入待測(cè)樣品中，固定住標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的晶胞參數(shù)，以此為內(nèi)標(biāo)，校正儀器的零點(diǎn)和樣品位移誤差。2、在精修前，先測(cè)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的角度校正曲線，此時(shí)可校正儀器零點(diǎn)。樣品位移成為直接精修的變量。3、如果不用標(biāo)準(zhǔn)樣品校正儀器零點(diǎn)和樣品位移，則二者成為精修變量。4、晶胞參數(shù)是一個(gè)可以直接精修的變量。從操作界面直接觀察到結(jié)果。以初始的晶體結(jié)構(gòu)為模型，原子位置(x，y，z)，固溶體中的原子占位(n)，包含溫度因子在內(nèi)的結(jié)構(gòu)因子(B)是可以直接精修的變量。這些參數(shù)會(huì)影響晶胞參數(shù)。例: Li-Mn-Co-Ni-O三元電池正極材料的晶體結(jié)構(gòu)精修粉末衍射經(jīng)常做的一種精修是:無(wú)法找到實(shí)測(cè)物相的晶體結(jié)構(gòu)模型。但有相近的模型可以借用。通過(guò)修改模型，可以得到實(shí)測(cè)物質(zhì)的晶體結(jié)構(gòu)。例：Li-Mn-Co-Ni-O三元電池正極材料是沒有PDF卡片或者CSD卡片的。但有結(jié)構(gòu)相近的LiCoO2的晶體結(jié)構(gòu)模型。通過(guò)FindIt軟件保存好LiCoO2的CIF模型；讀入Jade，進(jìn)行晶胞參數(shù)調(diào)整，基本吻合晶胞參數(shù)；修改原子參數(shù)，保存成新的CIF模型；讀入新模型進(jìn)行占位率精修。
晶體結(jié)構(gòu)精修的方法總結(jié)
晶體結(jié)構(gòu)精修，經(jīng)常涉及原子位置、各向同性因子、位置占有率的精修。這些在精修界面直接約束。
![]()
在這個(gè)例子中，Ni2+與Li占有相同的位置。將Ni2+的各向同性因子約束與Li的相同。占有率為1-n1。
![]()
Ni3+與Co，Mn占有相同的位置。將Co，Mn的各向同性因子約束與Ni3+的相同。精修Ni，Co的占有率。
![]()
精修Ni，Co的占有率。Mn的占位率為1-n3-n4。1、應(yīng)當(dāng)先修主要相，次要相可以在最后稍做精修；2、在精修過(guò)程中可以隨時(shí)加入要精修的相；3、可以用鼠標(biāo)拖入CIF結(jié)構(gòu)模型，也可以直接使用PDF卡片，但只有計(jì)算卡片或CIF模型才可以做晶體結(jié)構(gòu)精修；4、暫時(shí)不被精修的相應(yīng)當(dāng)固定住(N)；5、精修時(shí)發(fā)現(xiàn)不存在的相應(yīng)當(dāng)排除(E)；6、微量相的衍射線最容易自動(dòng)移動(dòng)其它物相的峰下面，占用其它物相的衍射強(qiáng)度，造成微量相的含量急劇升高的假象；7、根據(jù)衍射峰位移動(dòng)的正確性來(lái)判斷精修結(jié)果的正確性，避免假收斂。8、Rietveld方法的收斂和結(jié)果的精確度依賴數(shù)據(jù)的測(cè)量精度。定量分析-晶胞參數(shù)-原子摻雜占位的測(cè)量時(shí)間分別為0.5-1-8h。9、要有寬的掃描速度，對(duì)于結(jié)構(gòu)精修，需要測(cè)到130°以上。
![]()
技術(shù)咨詢服務(wù)包括：北京高?？萍假Y源對(duì)接、危險(xiǎn)廢棄物梳理、環(huán)境影響評(píng)價(jià)、環(huán)保項(xiàng)目竣工驗(yàn)收、場(chǎng)地環(huán)境調(diào)查等多個(gè)領(lǐng)域。開展的分析測(cè)試服務(wù)包括：X射線衍射分析、土壤礦物檢測(cè)、水質(zhì)檢測(cè)、場(chǎng)地環(huán)境檢測(cè)、二噁英檢測(cè)、建材VOC檢測(cè)、固廢檢測(cè)、理化參數(shù)等檢測(cè)項(xiàng)目，已取得CMA檢驗(yàn)檢測(cè)機(jī)構(gòu)資質(zhì)認(rèn)定和ISO/IEC 17025檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室認(rèn)可資質(zhì)。科學(xué)儀器研發(fā)方面：具備國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的 X 射線衍射 / 熒光分析儀器的研發(fā)生產(chǎn)能力，在 X 射線分析儀器的開發(fā)領(lǐng)域擁有多項(xiàng)自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)。單位先后通過(guò)北京市級(jí)企業(yè)科技研究開發(fā)機(jī)構(gòu)、高新技術(shù)企業(yè)、中關(guān)村高新技術(shù)企業(yè)等認(rèn)證。 若您有任何咨詢問題，可聯(lián)系我們，我們會(huì)為您解答。400-0064-028 、010-62423361
![]()
免責(zé)聲明：資料來(lái)源網(wǎng)絡(luò)，以傳播知識(shí)、有益學(xué)習(xí)和研究為宗旨，所提供內(nèi)容僅供讀者參考交流，科學(xué)研究使用，其他用途不得轉(zhuǎn)載或下載。如涉及侵權(quán)，請(qǐng)聯(lián)系我們及時(shí)刪除。
13611330937