今天為大家介紹的是《多點(diǎn)抽取高精度脫硝氨逃逸分析系統(tǒng)研發(fā)與應(yīng)用》，這是北京大方科技有限責(zé)任公司2015年參與培育項(xiàng)目的研發(fā)課題，其成果多點(diǎn)抽取高精度脫硝氨逃逸分析系統(tǒng)（TDL Ammonia Slip Automated Measuring System），規(guī)格型號(hào)DLGA-3000。

大方科技多點(diǎn)抽取高精度脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)采用國(guó)際尖端的可調(diào)諧激光吸收光譜技術(shù)，結(jié)合國(guó)內(nèi)實(shí)際工況量身打造。國(guó)際上首創(chuàng)將多點(diǎn)抽取和多次反射長(zhǎng)光程技術(shù)應(yīng)用于氨逃逸監(jiān)測(cè)，系統(tǒng)監(jiān)測(cè)點(diǎn)位多，數(shù)據(jù)有代表性，測(cè)量精度高，適應(yīng)高溫、高濕、高粉塵、高腐蝕、震動(dòng)等惡劣煙氣工況，適用于電力、水泥、焦化、陶瓷、玻璃、冶金等領(lǐng)域脫硝后氨逃逸的實(shí)時(shí)在線分析。成果獲得國(guó)家發(fā)明專利2項(xiàng)、實(shí)用新型專利5項(xiàng)、軟件著作權(quán)4項(xiàng)；成果通過中國(guó)電機(jī)工程學(xué)會(huì)鑒定獲評(píng)總體居國(guó)際領(lǐng)先水平；成果通過國(guó)際查新，證明多點(diǎn)抽取和高精度多反技術(shù)在氨逃逸檢測(cè)的應(yīng)用為國(guó)際首創(chuàng)；成果實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化，市場(chǎng)銷售近千套，并收到多家用戶書面出具的使用良好證明。

脫硝氨逃逸分析屬于環(huán)境監(jiān)測(cè)里的一個(gè)細(xì)分領(lǐng)域，在脫硝規(guī)范中有明確要求，凡是開展脫硝工藝的企業(yè)一般都會(huì)上氨逃逸監(jiān)測(cè)。我國(guó)政府相繼在電力、水泥、陶瓷、焦化等領(lǐng)域開展環(huán)境整治工作，各企業(yè)紛紛開展脫硫脫硝除塵工作。脫硝氨逃逸分析系統(tǒng)作為脫硝工程降低氮氧化物排放及氨逃逸排放的必備重要監(jiān)測(cè)設(shè)備，市場(chǎng)潛力達(dá)數(shù)十億。大方科技專注氨逃逸監(jiān)測(cè)領(lǐng)域多年，目前已開發(fā)出第四代氨逃逸監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，產(chǎn)品在技術(shù)性能、價(jià)格和服務(wù)上占據(jù)了相對(duì)優(yōu)勢(shì)，形成了一定的市場(chǎng)基礎(chǔ)，市場(chǎng)認(rèn)知度和接受度較高，隨著國(guó)家環(huán)保政策的深入，氨逃逸市場(chǎng)也逐步釋放，大方科技氨逃逸將有更廣闊的發(fā)展空間，力爭(zhēng)打造氨逃逸監(jiān)測(cè)領(lǐng)域的第一品牌。

目前大方科技氨逃逸分析系統(tǒng)已經(jīng)進(jìn)入產(chǎn)業(yè)化階段，并在業(yè)內(nèi)形成了一定的知名度，其核心技術(shù)可調(diào)諧激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)的應(yīng)用還有很多，這項(xiàng)技術(shù)適合解決各種復(fù)雜環(huán)境、微量氣體的在線監(jiān)測(cè)，作為掌握該項(xiàng)核心技術(shù)的企業(yè)之一，大方科技希望得到更多的展示機(jī)會(huì)，去發(fā)揚(yáng)和推廣這項(xiàng)技術(shù)應(yīng)用，打造中國(guó)自主創(chuàng)新、自主品牌的新力量。

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