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XRD精修的那些事兒(4):Fullprof精修參數(shù)及順序

發(fā)布時(shí)間:2021-01-28   來(lái)源:北達(dá)燕園微構(gòu)分析測(cè)試中心

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一、精修順序初講
粉末精修過(guò)程涉及的參數(shù)比較多,在Young主編的 The Rietveld Method [1]一書中,指出了整個(gè)精修過(guò)程需要修正兩大類參數(shù):全局參數(shù)和相參數(shù)。全局參數(shù)包括:零點(diǎn)、儀器參數(shù)、樣品吸收等等;相參數(shù)主要有晶胞參數(shù)和原子坐標(biāo)等,如Table 1.1 所示。

對(duì)于X射線粉末衍射數(shù)據(jù),Rietveld 方法比較常用的函數(shù)有“pseudo-Voigt, pV”函數(shù)“Pearson VII”函數(shù),Fullprof中一般使用“pV”函數(shù)即可。一個(gè)物質(zhì)的X射線粉末衍射圖譜,是由結(jié)構(gòu)參數(shù)和圖像參數(shù)兩種不同特性的參數(shù)貢獻(xiàn)的。圖譜的峰形和位置主要由圖形參數(shù)決定,圖譜積分強(qiáng)度主要由結(jié)構(gòu)參數(shù)決定。在精修時(shí)可分兩步進(jìn)行,先修正圖形參數(shù),第二步再修正結(jié)構(gòu)參數(shù),當(dāng)兩組參數(shù)都穩(wěn)定收斂時(shí),修正結(jié)果才是滿意的。具體的精修順序如下表所示。

二、Fullprof精修實(shí)例(PbSO4

PbSO4作為入門精修還是比較常見(jiàn)的,主要原因是這個(gè)結(jié)構(gòu)比較簡(jiǎn)單。PbSO4為正交晶系,格位簡(jiǎn)單,只有一種Pb格位,沒(méi)有未知的混合占位等情況,因此簡(jiǎn)單很多,我們先從這個(gè)簡(jiǎn)單數(shù)據(jù)入手,知道在Fullprof中一般是怎么精修的,再慢慢進(jìn)階去嘗試一些更復(fù)雜的數(shù)據(jù)。按照如前所述,現(xiàn)在給出精修的一般步驟。
1、獲得pcr文件;
pcr文件的獲得方式詳見(jiàn)上一推文,數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換詳見(jiàn)上一推文,準(zhǔn)備就緒之后,文件夾中應(yīng)該有三個(gè)文件,分別是:PbSO4.cif, PbSO4.DAT, PbSO4.pcr;


2、設(shè)置精修輪數(shù)“Cycles of Refinement”;20 – 50均可。輪數(shù)少了再進(jìn)行完成之后,可以繼續(xù)Run,因此這個(gè)數(shù)值影響不大,不要過(guò)大即可,防止有時(shí)候發(fā)散,這里設(shè)置為20,如下:

3、按照如上表格順序進(jìn)行。
3.1 首先對(duì)Scale因子精修,Scale因子屬于圖形參數(shù),F(xiàn)ullprof默認(rèn)是0.001,精修Scale,勾上即可,如下:


精修后,chi2 = 254,數(shù)據(jù)如下:


3.2 Zero


精修后,chi2 = 191,數(shù)據(jù)如下:


3.3 Background


這里選擇的是6系數(shù)的多項(xiàng)式,先修前三個(gè)系數(shù)即可,精修后,chi2 = 39.8,數(shù)據(jù)如下:


3.4 Cell Parameters


由于PbSO4為正交晶系,al = be = ga = 90°,均為特殊角度,不進(jìn)行勾選修正。精修后,chi2 = 36.8,數(shù)據(jù)如下:


3.5 Cell Parameters + Zero  


3.6 W
特別注意:在修W之前,要確保晶胞參數(shù)基本是正確的,否則峰型函數(shù)精修是不恰當(dāng)?shù)?。即:修正W前,再將Background(前三項(xiàng)),Zero以及Scale和Cell Paremeters都勾選修正一下。這里,勾選精修后,chi2= 20.6。


接下來(lái),勾選W精修:


精修后,chi2 = 12.5,數(shù)據(jù)如下: 


3.7 U,V,Eta


精修后,chi2 = 10.6,數(shù)據(jù)如下:


3.8 Asym


精修后,chi2 = 9.65,數(shù)據(jù)如下:


3.9 圖形參數(shù)再修一遍,當(dāng)收斂的時(shí)候可以嘗試兩個(gè)或以上參數(shù)組合精修。最終應(yīng)該是:勾選上述的所有圖形參數(shù),擬合收斂,這里,chi2 = 7.60


3.10 結(jié)構(gòu)參數(shù)精修。包括原子坐標(biāo),占有率,溫度因子。占有率在無(wú)特殊占位的情況下(缺陷,替代等),可不修正。

3.10.1 打開Atom模塊,除了原子坐標(biāo)和占有率外,還有諸如B11,B22之類的參數(shù)。這是原子的各向異性溫度因子,在我們平常無(wú)機(jī)材料的精修中,將其修改為各向同性溫度因子即可。修改完成之后,保存運(yùn)行,發(fā)現(xiàn)chi2 = 67,變大很多,這時(shí)候,勾選全局溫度因子B精修即可,精修后chi2 = 5.24。


3.10.2 精修原子坐標(biāo),遵循先重后輕的原則,先修重原子坐標(biāo),待收斂后,再精修輕原子坐標(biāo)。依次勾選Pb,S和O原子坐標(biāo)進(jìn)行精修:

注意特殊位置不用勾選。精修后chi2 = 5.19。

3.11 經(jīng)過(guò)幾輪精修之后,逐個(gè)將參數(shù)勾選精修,最終chi2 = 3.85。(Fullprof在修峰型時(shí)要特別小心,很容易發(fā)散或出現(xiàn)斷尾等情況,要慢慢修,開始不要一次勾選多個(gè)運(yùn)行


3.12 將精修結(jié)果導(dǎo)出Origin作圖。

參考文獻(xiàn):

[1] Young R A. The rietveld method [M].International union of crystallography, 1993. 


小編學(xué)識(shí)有限,錯(cuò)誤之處請(qǐng)批評(píng)指正。


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