為助力北京市集成電路ALD(Atomic Layer Deposition)裝備企業(yè)及超細(xì)粉設(shè)備企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新，北京市知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息中心決定面向社會(huì)公開(kāi)征集《集成電路ALD裝備技術(shù)專利跟蹤分析》和《超細(xì)粉設(shè)備專利跟蹤分析》課題研究單位?，F(xiàn)將有關(guān)事項(xiàng)公告如下：
一、申請(qǐng)條件
（一）申請(qǐng)單位須是北京地區(qū)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理機(jī)構(gòu)、高校院所、企事業(yè)單位和行業(yè)協(xié)會(huì)，不面向個(gè)人；
（二）申請(qǐng)單位須具有相關(guān)領(lǐng)域?qū)＠治稣n題的研究經(jīng)驗(yàn)和研究成果；
(三）三年以上運(yùn)營(yíng)資歷，具有獨(dú)立承擔(dān)民事責(zé)任和履行合同能力，具有良好的商業(yè)信譽(yù)和健全的工作管理制度，有依法繳納稅收的良好記錄。
二、申請(qǐng)時(shí)間及方式
（一）申請(qǐng)時(shí)間：從此公告發(fā)出之日起，截至2015年9月16日18時(shí)止；
（二）申請(qǐng)方式： 申請(qǐng)單位針對(duì)兩個(gè)課題分別填寫《北京市知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息中心課題研究項(xiàng)目申報(bào)書》，發(fā)送至郵箱：mx5160169@163.com，郵件主題注明“專利跟蹤分析課題申請(qǐng)”。
（三）聯(lián)系人：周美霞 010-82356446轉(zhuǎn)830
付占海 010-82356446轉(zhuǎn)808
三、研究?jī)?nèi)容及要求
（一）《集成電路ALD裝備技術(shù)專利跟蹤分析》
摸清集成電路ALD(Atomic Layer Deposition)裝備技術(shù)市場(chǎng)情況，檢索獲得相關(guān)專利，通過(guò)對(duì)專利數(shù)據(jù)的加工分析，了解該技術(shù)潛在市場(chǎng)分布情況，了解目前研究熱點(diǎn)，為企業(yè)研發(fā)立項(xiàng)確定技術(shù)發(fā)展方向，確定潛在的合作伙伴和競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手，評(píng)估立項(xiàng)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)風(fēng)險(xiǎn)，制定風(fēng)險(xiǎn)防范預(yù)案。最終形成能夠有效指導(dǎo)企業(yè)研發(fā)活動(dòng)的專利跟蹤分析報(bào)告。
（二）《超細(xì)粉設(shè)備專利跟蹤分析》
檢索超細(xì)粉設(shè)備相關(guān)專利文獻(xiàn)，通過(guò)專利分析了解該技術(shù)國(guó)內(nèi)外的發(fā)展?fàn)顩r, 專利態(tài)勢(shì)與市場(chǎng)分布情況，主要競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手動(dòng)態(tài)，為企業(yè)立項(xiàng)研發(fā)確定研發(fā)方向，形成研究報(bào)告。
（三）課題負(fù)責(zé)人須具有較強(qiáng)的組織協(xié)調(diào)能力，有較高的理論素養(yǎng)、較寬的國(guó)際視野和分析解決問(wèn)題的能力，能夠保證全過(guò)程擔(dān)負(fù)實(shí)質(zhì)性研究工作；課題團(tuán)隊(duì)的人員結(jié)構(gòu)和專業(yè)配置須規(guī)模適度、結(jié)構(gòu)合理，與課題研究的內(nèi)容和要求相適應(yīng)；
（四）進(jìn)度要求
課題研究時(shí)間2015年9月至12月。
四、北京市知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息中心將根據(jù)報(bào)名及提交材料情況，組織專家對(duì)材料進(jìn)行評(píng)審，擇優(yōu)確定承擔(dān)單位，并簽訂研究課題合作協(xié)議書。

附件：北京市知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息中心課題研究項(xiàng)目申報(bào)書

北京市知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息中心
2015年9月10日

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來(lái)源：北京市知識(shí)產(chǎn)權(quán)局