主要指標(biāo)：
3獨(dú)立光路4激光器（紫外到近紅外），低波數(shù)達(dá)到50并可做PL，配備連續(xù)掃描、大面積快速掃描，共焦功能實(shí)現(xiàn)三維測(cè)試。
光譜性能：可見全譜段分辨率優(yōu)于1 cm-1、紫外優(yōu)于2 cm-1； 硅一階峰重復(fù)性好于0.1 cm-1；硅三階峰信噪比好于 20:1。
光譜范圍與激光器：325 nm (30 mW UV，200-21000 cm-1 )，532 nm ( 50 mW，50-9000 cm-1 )、633 nm ( 17 mW， 50-6000 cm-1 ） 、785 nm ( 300 mW，50-3500 cm-1 )。
空間分辨率：XY平面優(yōu)于0.5 μm，Z方向2 μm（高共焦，100X物鏡）。
自動(dòng)樣品臺(tái)： 100×70 mm，重復(fù)精度0.1 μm。
物鏡：5X、20X、50X、100X、20X超長焦 (WD 25 mm)、50X長焦 (WD 8.2 mm)、40X UV、63X水鏡、100X油鏡。透反白光照明、透反偏振、落射熒光 (DAPI LP、FITC LP、RHOD LP)。
數(shù)據(jù)庫：雷尼紹礦物&高分子數(shù)據(jù)庫，可自建譜庫與檢索。
功能特色：
1.獨(dú)立優(yōu)化光路&高精度控制
多路激光器分立光路；
各波長獨(dú)立優(yōu)化；
全自動(dòng)存儲(chǔ)、調(diào)節(jié)與切換光路；
全自動(dòng)切換光路與自動(dòng)準(zhǔn)直；
精密控制技術(shù)，如動(dòng)態(tài)三點(diǎn)定位技術(shù)與驅(qū)動(dòng)控制光柵尺技術(shù)；
光柵轉(zhuǎn)臺(tái)、濾光片轉(zhuǎn)臺(tái)、三維平臺(tái)配置光柵尺反饋系統(tǒng)，重復(fù)精度提高10倍。
光譜重復(fù)性優(yōu)于0.1 cm-1，穩(wěn)定性優(yōu)于0.01 cm-1。
2.快速掃描成像&三維重構(gòu)
Streamline Plus專利技術(shù)；
線掃描結(jié)合大面積CCD同時(shí)獲得復(fù)數(shù)條拉曼光譜；
實(shí)現(xiàn)大面積快速拉曼掃描成像，成像均勻一致、無拼接；
同時(shí)適用于厘米級(jí)大面積以及微米級(jí)顯微樣品；
相比傳統(tǒng)單點(diǎn)模式mapping，速度提高100倍；
樣品成分的檢索與目標(biāo)成分的面分布、三維空間分布重構(gòu)。
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